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MO: Molekülphysik
MO 16: Cluster IV: Fullerene / Oberflächen
MO 16.5: Talk
Thursday, March 6, 1997, 12:45–13:00, HS20
Streuung von neutralen NH3 Clustern an LiF(100) — •C. Menzel1, R. Baumfalk2 und H. Zacharias3 — 1FB Physik, Universität-GH Essen, D-45141 Essen — 2MPI für Stömungsforschung, Bunsenstr. 10, D-37073 Göttingen — 3Physikalisches Institut, Westf. Wilhelms-Universität, D-48149 Münster
(NH3)n Cluster mit 1≤n≤50 werden in einem gepulsten Molekularstrahl durch Expansion eines Gemisches NH3/Kr 1:1 erzeugt. Die so geseedeten Cluster erreichen eine kinetische Energie von 48 meV pro Molekül und werden an einer LiF- Oberfläche gestreut. Die Oberfläche wird durch spalten eines LiF-Kristalls an Luft erzeugt und im Vakuum ausgeheilt. Die gestreuten Teilchen werden mit einem VUV-Laser (λ = 118 nm) ionisiert und in einem reflektierenden Flugzeitmassenspektrometer nachgewiesen. Für die Streuung von NH3 und kleinen Clustern werden die Winkelverteilung und die Geschwindigkeitsverteilung gemessen und mit einem thermokinetischen Modell von Vach et al. [1] verglichen.
[1] H. Vach, A. De Martino, M. Benslimane, M. Châtelet, F. Pradère J. Chem. Phys. 100, 8526 (1994)