Mainz 1997 – scientific programme
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P: Plasmaphysik
P 23: Plasma-Wand-Wechselwirkung II
P 23.4: Talk
Thursday, March 6, 1997, 14:45–15:00, P 10
Erosion plasmadeponierter C:H-Schichten in O2, H2O, undO2/H2 Plasmen — •Wolfgang Jacob, Bernhard Landkammer und Achim von Keudell — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik,Boltzmannstr. 2, D–85748 Garching b. München
In Fusionsanlagen mit Graphiteinbauten werden durch das Plasma Kohlenstoffatome erodiert und zusammen mit Wasserstoffisotopen aus dem Plasma redeponiert. Dies führt zum Aufbau sog. ’kodeponierter’ Schichten und eines relativ großen Wasserstoffinventars, das beim Betrieb von D–T Plasmen auch ein mögliches Gefährdungspotential darstellt. Deshalb besteht der Wunsch nach einem Verfahren, mit dem solche kodeponierten Schichten routinemäßig entfernt werden können. Eine Möglichkeit dafür ist, die Schichten in Betriebspausen durch Erosion in einem Niederdruckplasma zu entfernen. Wir haben dazu die Erosion von wasserstoffhaltigen Kohlenstoffilmen durch O2, H2O, und O2/H2 ECR–(Electron Cyclotron Resonanz)–Plasmen mittels In–situ–Ellipsometrie untersucht. Die Einflüsse der einzelnen Gasmischungen auf die Erosionsrate wurden bei variierten Plasmaparameter wie Ionenenergie, Druck, Verweilzeit, Leistung und Substrattemperatur gemessen. O2 hat sich dabei als das effektivste Erosiongas erwiesen.