Münster 1997 – scientific programme

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CP: Chemische Physik

CP 15: Poster zur Sitzung CP5

CP 15.2: Poster

Tuesday, March 18, 1997, 18:30–21:15, FBH

Photoemissionsuntersuchungen zum Restgaseinfluß auf die
Metall-Organik-Grenzschicht — •F. Baier, A. Soukopp, F.v. Ludowig, K. Glöckler, M. Sokolowski, and E. Umbach — Experimentelle Physik II, Universität Würzburg, Am Hubland, D-97074 Würzburg

Den inneren Grenzflächen zwischen metallischen Kontakten und organischen Materialien kommt beim Verständnis und der Optimierung von organischen optoelektronischen Bauelementen eine wichtige Rolle zu. Dabei spielt einerseits die chemische Reaktion der Metalle mit der Organik eine Rolle, zum anderen können Restgase, wie z.B. Wasser und Sauerstoff während des Aufdampfens des Metalls zu zusätzlichen Reaktionen führen, wodurch die elektronische Struktur des Kontaktes mitbestimmt wird. Diesen Fragestellungen wurde mittels Photoemissionsuntersuchungen (XPS,UPS) im UHV an dünnen Al-Filmen auf Oligothiophenschichten nachgegangen. Es wurde sowohl Sauerstoff als auch Wasser in vergleichbaren Dosen (ca.10Å) Al-Schichten auf Thiophenfilmen dosiert. Anhand der dabei erhaltenen Daten vor und nach der Zugabe von Wasser/Sauerstoff, speziell der Al-2p/2s-, C1s- und S2p-XPS-Linien kann man auf eine reine Oberflächenreaktion schliessen, welche mit Wasser stärker abläuft al! s mit Sauerstoff. (Gefördert dur ch BMBF, Projekt BM205/2)