Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 15: Harte Schichten II

DS 15.1: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 11:45–12:00, PC 7

Abscheidung von titanhaltigen Nanocompositschichten mit einem plasmaaktivierten Verfahren — •Andrea Stricker, Wolfram Luithardt und Carsten Benndorf — Uni Hamburg, Inst. f. Physikalische Chemie, Bundesstr. 45, 20146 Hamburg

Das Interesse an Nanocomposit-Schichten ist in letzter Zeit merklich angestiegen, da durch das Dispergieren von Metallen bzw. Metallverbindungen in isolierende, amorphe Schichten eine große Variationsbreite der Schichteigenschaften erreicht werden kann. Wir berichten über eine plasmaaktivierte chemische Gasphasenabscheidung aus titanhaltigen organischen Ausgangsstoffen (PA-MOCVD), mit kapazitiv eingekoppeltem HF- Plasma (13,56 MHz). Es zeigte sich, daß bei der Verwendung von Titan(IV)-ethylat und unter Variation einiger Prozeßparameter, titandioxidhaltige amorphe Kohlenstoffwasserstoff-Schichten mit einem durchschnittlichen Titangehalt von etwa 20 at% abgeschieden werden konnten. Mit röntgeninduzierter Photoelektronenspektroskopie (XPS) wurde die Änderung der Stöchiometrie der Titan-Sauerstoffbindung in Abhängigkeit von der HF-Leistung und von zusätzlich eingebrachten molekularem Wasserstoff untersucht. Für hohe Leistungen und hohe Flüsse konnte eine deutlich carbidische Bindungskomponente des Titans nachgewiesen werden. Die Plasmazusammensetzung wurde während des Beschichtungsprozesses mit einem Quadrupolmassenspektrometer verfolgt.