Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 15: Harte Schichten II

DS 15.2: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 12:00–12:15, PC 7

Abscheidung und Charakterisierung von CN-Schichten in einem ECR-MW-Plasma — •G. Brendes, A. Weber, K. Bewilogua, U. Bringmann und U. Hoffmann — Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik (FhG-IST) Braunschweig

Amorphe Kohlenstoffnitridschichten (a-CN) wurden durch Wechselwirkung eines Graphittargets mit einem ECR-Mikrowellenplasma abgeschieden. Im Gegensatz zu RF- oder DC-Plasmen zeichnen sich ECR-Plasmen durch besonders hohe Ionisationsgrade aus und sind deshalb für die Abscheidung von metastabilen Schichten geeignet, für die hohe Ionen/Neutralteilchen-Verhältnisse erforderlich sind.
Es wurden Schichten unter Variation der Plasmazusammensetzung, Mikrowellenleistung, Substratbias und Substrattemperatur abgeschieden. Als Substrate wurden Silizium (100) und Stahl (100CR6) verwendet. Die chemische Zusammensetzung der a-CN Schichten konnte über die Elektronenstrahl- Mikronanalyse (EPMA) ermittelt werden. Außerdem wurden die mechanischen, tribologischen, elektrischen und optischen Eigenschaften (IR, Ellipsometrie) in Abhängigkeit der Abscheidungsbedingungen untersucht.