Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 16: Multilayer

DS 16.6: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 13:00–13:15, H 55

Ortsaufl"osendes Mikrofokus–Reflektometer zur Untersuchung von Spiegeln f"ur den weichen R"ontgenbereich — •S. Rahn, O. Wehmeyer, E. Braun, F. Hamelmann, U. Kleineberg, and U. Heinzmann — Universit"at Bielefeld, Fakult"at f"ur Physik, D-33501 Bielefeld

R"ontgenstrahlung eines laserinduzierten Plasmas wird durch einen Kondensor 5:1 verkleinert auf die Probe fokussiert. Schutzgas und Schutzfolien sch"utzen den Kondensorspiegel vor einer Besch"adigung durch Plasma-Debris. Der Kondensor ist ein Off-axis-Ellipsoid, dessen Mo/Si-Multischicht auf der ganzen Fl"ache eine Wellenl"ange von 13 nm reflektiert. Die infolge der starken Kr"ummung daf"ur notwendige Variation der Schichtdicke wurde beim PVD–Herstellungsprozeß durch ein bewegtes Shuttersystem realisiert. Der vom Kondensor erzeugte R"ontgenspot wurde hinsichtlich Ausdehnung und Intensit"at mit einer CCD-Kamera vermessen. Er wird zur ortsaufl"osenden Reflektometrie an Mo/Si-R"ontgenspiegeln verwendet. Die konvergent auf die Probe einfallende Strahlung wird je nach Einfallswinkel unterschiedlich stark reflektiert und von der CCD-Kamera zweidimensional detektiert. Aus dem Reflexionswinkel des Intensit"atsmaximums l"aßt sich die Periodendicke am Ort des Fokus bestimmen. Der R eflektometeraufbau erlaubt es, auch gekr"ummte Oberfl"achen im Fokus zu verschieben, so daß die laterale Variation der Periodendicke sowie die relative "Anderung der Reflektivit"at bestimmt werden k"onnen.