Münster 1997 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 18: Harte Schichten III

DS 18.4: Talk

Tuesday, March 18, 1997, 16:00–16:15, PC 7

Zusammensetzung, Struktur und Erosionsverhalten amorpher hydrogenisierter Bor–Kohlenstoff (a–B/C:H) Schichten — •A. Annen, A. von Keudell, M. Sass und W. Jacob — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik, Boltzmannstr. 2,D–85748 Garching b. München

Das Erosionsverhalten plasmazugewandter Komponenten ist von zentraler Bedeutung bei der Plasma–Wand–Wechselwirkung von Fusionsexperimenten. Zur Konditionierung der Gefäßwände werden amorphe hydrogenisierte Bor–Kohlenstoff (a–B/C:H) Schichten erfolgreich eingesetzt. Mittels RF–PECVD deponierte Schichten wurden bezüglich ihrer Zusammensetzung, Dichte und Struktur mit Ionenstrahlverfahren und FTIR–Spektroskopie untersucht. Ellipsometrische Messungen der Erosion durch Ionenbeschuß aus H₂–, D₂–, und He–Plasmen sowie durch atomaren Wasserstoff (H⁰) werden präsentiert. Die chemische und physikalische Erosion der a–B/C:H Schichten wird in Abhängigkeit von der Filmzusammensetzung diskutiert.