Münster 1997 – wissenschaftliches Programm
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DS: Dünne Schichten
DS 24: Ionenimplantation I
DS 24.3: Vortrag
Donnerstag, 20. März 1997, 11:30–11:45, H 55
CEMS- und AES-Untersuchungen an Eisendisiliziden — •M. Dobler, H. Reuther und W. Möller — Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung, Forschungszentrum Rossendorf, Postfach 51 01 19, 01314 Dresden
Mittels Ionenimplantation bei 350∘C von Fe-Atomen in Silizium
kann das metallische α-FeSi2 (stabil über 960∘C) und das
halbleitende β-FeSi2 (stabil unter 960∘C) erzeugt werden.
Die Phasenbildung und Zusammensetzung wurde in Abhängigkeit
von den Implantations- und Temperbedingungen untersucht. Die
Phasenanalyse erfolgte mit Konversionselektronen-Mößbauer-Spektroskopie
(CEMS) und die Fe-Konzentrationsprofile wurden mit
Augerelektron-Spektroskopie (AES) bestimmt. Während der Implantation
entsteht ein Phasengemisch aus α- und β-FeSi2, das durch
Temperung bei 1150∘C in die reine α-Phase und bei 900∘C
in die β-Phase überführt werden kann. Untersuchungen mit
Scanning-Augerelektronen-Mikroskopie (SAM) zeigen, daß das
β-FeSi2 in großen Präzipitaten und das α-FeSi2 in Form
einer Durchdringungsstruktur vorliegt. Messungen in unterschiedlichen
Tiefen zeigen das säulenartige
Wachstum beider Strukturen.
Gefördert durch die DFG (Re 868/1-2)