Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 3: Sonstiges I

DS 3.1: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 10:15–10:30, ZB

Mikro-Rauhigkeit von mit dem ECI-Verfahren hergestellten dünnen Schichten — •Oliver Rattunde, M. Moseler, B. Knühl, J. Kraft, Y. Qiang und H. Haberland — Freiburger Materialforschungszentrum, Stefan-Meier-Str. 21, 79104 Freiburg

Mit einem neuartigen Beschichtungsverfahren (ECI-Energetic Cluster Impact) werden Beschichtungen mit energiereichen Cluster-Ionen durchgeführt (E=0...30keV). Der Schichtwachstumsprozeß kann sowohl experimentell mit dem AFM als auch theoretisch mit Hilfe einer stochastischen Differentialgleichung analysiert werden. Im Vergleich zwischen Theorie und Experiment wird eine sehr gute Übereinstimmung erzielt. Zusätzlich werden die Möglichkeiten der Oberflächenanalyse über das Powerspektrum (Fourier-Transformierte der Oberfläche) diskutiert.