Münster 1997 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 31: Plasma– und Ionentechniken
DS 31.3: Talk
Friday, March 21, 1997, 12:15–12:30, PC 7
Untersuchungen an TiN-Filmen durch Röntgendiffraktometrie und Reflektometrie — •Jens Klimke1, Christoph Eggs2 und Harm Wulff1 — 1Universität Greifswald- Institut für Physikalische Chemie — 2Physikalisches Institut
Um Informationen zum Einfluß der Verdampferleistung auf die Plasma-Wand-Wechselwirkung bei der Schichtabscheidung im Hohl- kathodenbogenverdampfer zu erhalten, wurden Titannitrid-Schichten von ca. 50nm Dicke im Leistungsbereich von 4.1 bis 5.5 kW bei konstantem Stickstoff- und Argon-Fluß auf Si-Wafern abgeschieden und hinsichtlich ihrer Schichtdicke, Homogenität, Kristallini- tät, Dichte und Rauhigkeit untersucht. Die Schichten sind poly- kristallin mit einer geringen Vorzugsorientierung in (111)Rich- tung. Der Vergleich von berechneten und gemessenen Beugungsinten- sitäten bei verschiedenen Eindringtiefen zeigt die Homogenität der Schichtbildung. Die Modellierung der Reflektometriemessungen ergab eine ca.5 nm dicke Titandioxid Deckschicht. Obwohl sich das Ti/N-Verhältnis im Plasma mit der Verdampferleistung ändert, bleibt das Ti/N-Verhältnis in den Schichten konstant. Bei 4.1kW weisen die Schichten gegenüber den im Bereich von 4.5kW bis 5.5kW abgeschiedenen eine deutlich verringerte Dichte und erhöh- te Rauhigkeit, sowie eine Verschiebung der Beugungsreflexe zu höheren Winkeln auf. Die Ergebnisse werden anhand der plasmadiag- nostisch ermittelten Anteile der Plasmakomponenten diskutiert.