DS 31: Plasma– und Ionentechniken
Freitag, 21. März 1997, 11:45–13:15, PC 7
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11:45 |
DS 31.1 |
Tiefenprofilierung von Wasserstoffisotopen mit Beschleuniger Massenspektrometrie — •W. Möller, G. Sun, M. Friedrich, R. Grötzschel, W. Bürger, R. Behrisch und C. Garcia-Rosales
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12:00 |
DS 31.2 |
Tiefenaufgelöste Ladungszustandsverteilung von 1,1 MeV Argonionen nach Rückstreuung an Gold — •S. Jamecsny und H. D. Carstanjen
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12:15 |
DS 31.3 |
Untersuchungen an TiN-Filmen durch Röntgendiffraktometrie und Reflektometrie — •Jens Klimke, Christoph Eggs und Harm Wulff
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12:30 |
DS 31.4 |
Plasmadiagnostik bei Beschichtungsprozessen mittels Plasmapolymerisation — •S. Schreiber, G. Crolly, and H. Oechsner
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12:45 |
DS 31.5 |
Vergleich photo- und plasmachemischer Verfahren zur Behandlung von Kunststoffen — •S. Beil, M. Blömer und K. Pochner
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13:00 |
DS 31.6 |
Einsatz ortsauflösender Channelplates in der Ionenstrahlanalytik — •O. Wieland, T. Fischer, S. Jamecsny und H. D. Carstanjen
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