Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.58: Poster

Dienstag, 18. März 1997, 16:15–17:45, Aula

Herstellung dünner Alkalisilikatschichten mit Spin-on-Technik — •Dagmar Janssen und Michael Anders — Labor für Mikrosystemtechnik, FH-Wedel

In Spin-on-Technik lassen sich aus wässrigen Lösungen von Alkalisilikaten fest haftende, homogene Glasschichten bei Schichtdicken von ca. 50 bis 150nm und Rauhigkeiten von wenigen Nanometern herstellen. Die Schichten werden anschließend in einem Argonplasma behandelt, um Strukturveränderungen durch Rekristallisation und Tröpfchenbildung zu vermeiden. Durch rasterkraftmikroskopische und rasterelektronenmikroskopische Untersuchungen wurde nachgewiesen, daß nach der Behandlung keine Materialveränderungen mehr stattfinden. Die Schichten sind somit zum Einsatz in Mehrlagenprozessen der Mikrosystemtechnik geeignet. Das Passivierungsverfahren sowie ein Verfahren zum Trockenätzen solcher Schichten werden vorgestellt.