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HL: Halbleiterphysik

HL 15: STM

HL 15.1: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 10:30–10:45, H3

Erzeugung von nanometrischen Strukturen durch lokales Verschmelzen von Nanoteilchen mit dem Rastertunnelmikroskop — •P. Radojkovic, M. Schwartzkopff, P. Marquardt, T. Gabriel und E. Hartmann — Physik-Department E16, Techn. Univ. München, James-Franck-Str., D-85747 Garching

Durch thermisches Verdampfen einer festen Substanz in Gegenwart einer Edelgasatmosphäre ist es möglich, beliebige Substratoberflächen mit Teilchen von wenigen nm Durchmesser zu bedecken. Abhängig von der Expositionsdauer des Substrates, läßt sich die Teilchenbelegung in weiten Grenzen einstellen: von weniger als einer Monolage bis zu fast beliebig vielen übereinanderliegenden Schichten. Die individuellen Teilchen wechselwirken mit dem Substrat nur schwach.
In unseren Experimenten werden wenige Lagen von Ag-Teilchen auf einer atomar gestuften, H-terminierten Si(111)-Oberfläche in-situ aufgebracht. Bei geeigneter Wahl der Tunnelparameter (Strom, Spannung) lassen sich die Teilchen mit einem Rastertunnelmikroskop (RTM) reproduzierbar abbilden. Anlegen von erhöhten Tunnelparametern führt im Wirkungsbereich der Mikroskopspitze zum Verschmelzen der Nanoteilchen. Die nicht am Schmelzprozeß beteiligten Partikel können durch Abrastern bei verringertem Tunnelabstand aus dem RTM-Gesichtsfeld entfernt werden, wodurch das atomar gestufte Substrat wieder zum Vorschein kommt. Es soll der Einfluß der Tunnelparameter auf die erzeugten Strukturen sowie ein Modell für den Schmelzvorgang vorgestellt werden.