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HL: Halbleiterphysik

HL 19: Si/Ge II

HL 19.12: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 18:45–19:00, H2

Thermoreflexion an Si1−xGex-Schichten zur Analyse von Interbandübergängen — •N. Malkomes, K. Dettmer und J. Schoenes — Institut für Halbleiterphysik und Optik, TU Braunschweig, Mendelssohnstr. 3, D-38106 Braunschweig

Epitaktische, 1.5µ m dicke Si1−xGex-Schichten (x≈0.4) mit verschiedenen Bufferkonzepten auf (001)-Si wurden im Spektralbereich von 1.7eV bis 3.5eV bei Temperaturen zwischen 80K und 300K mit Hilfe von Thermoreflexionsmessungen untersucht. Dabei werden die Interbandübergänge (E0, E00, E1, E11, E0′) der Schichten mit der Ge-Endkonzentration erfaßt. Die Modulationsspektren werden mit entsprechenden Linienformen unter Verwendung der ellipsometrisch bestimmten (pseudo-) dielektrischen Funktion angepaßt und daraus die genauen spektralen Lagen und Arten der kritischen Punkte (M0, M1, M2, M3) bestimmt. In Verbindung damit wird die Qualität der Bufferschichten diskutiert.

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