Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 17: Metalloxide auf Metallen

O 17.3: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 16:30–16:45, S 10

Oxidation der Ni(111)-Oberfl"ache — •T. Koll¹, A. Abromeit¹, P. B"odeker¹, A. Stierle², I. Zoller¹, and H. Zabel¹ — ¹Institut f"ur Experimentalphysik/Festk"orperhysik, Ruhr-Universit"at, 44780 Bochum — ²European Synchrotron Radiation Facility, F-38043 Grenoble, Frankreich

NiO ist von gro"sem Interesse im Gebiet der katalytischen Reaktionen an Festk"orperoberfl"achen. Desweiteren ist das Verst"andnis der Oxidation von Metalloberfl"achen grundlegende Voraussetzung im Bereich des Korrosionsschutzes. Um das Wachstum von NiO(111) auf Ni(111) zu untersuchen, wurden epitaktische Ni(111)-Schichten bei verschiedenen Temperaturen im UHV bei einem Sauerstoff-Partialdruck von 5x10⁻⁵ Torr oxidiert und vor und nach der Oxidation mit R"ontgenstreuung (XRD, GIXS) und Beugung langsamer Elektronen (LEED) untersucht. Der so entstandene NiO(111)-Film w"achst epitaktisch auf der Ni-Schicht auf. Die S"attigungsschichtdicke des Oxidfilms und eine Aufrauhung der Oberfl"ache w"ahrend der Oxidation wurden als Funktion der Oxidationstemperatur aufgenommen. Mithilfe von LEED-Untersuchungen konnte eine Beziehung zwischen der fcc-Stapelung des Oxids und der des Ni-Substrats festgestellt werden. Ab einer kritischen Temperatur von 650K wurde eine parallel zur Oxidation verlaufende Diffusion von O-Ionen im Ni-Volumen durch Trapping in einer darunterliegenden Schicht nachgewiesen. (Diese Arbeit wurde durch das Graduiertenkolleg Dynamische Prozesse an Festk"orperoberfl"achengef"ordert.)