Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 22: POSTER II

O 22.2: Poster

Mittwoch, 19. März 1997, 14:15–15:45, AULA

Untersuchungen des lokalen Bleichverhaltens ultradünner Farbstoffschichten mittels SNOM — •Th. Dziomba, A. Naber, U.C. Fischer und H. Fuchs — WWU Münster, Physikalisches Institut, Wilhelm-Klemm-Str. 10, 48149 Münster

Mit der optischen Rasternahfeldlithographie können in Photolacke Strukturen geschrieben werden, deren Breite die beugungsbedingte Auflösungsgrenze der konventionellen optischen Mikroskopie deutlich unterschreitet [1]. Wesentlich für das Auflösungsvermögen ist - neben der Qualität der Nahfeldsonde - vor allem die gewünschte Strukturtiefe, da diese in einem festen Verhältnis zur Strukturbreite steht. Um das Auflösungsvermögen der optischen Nahfeldlithographie voll auszunutzen, ist demnach ein ultradünner Resist erforderlich. Zu diesem Zweck untersuchen wir die Verwendbarkeit eines selbstorganisierenden Cyanin-Farbstoffs, der kontrollierbar monomolekulare Monomer- und J-Aggregat-Schichten bildet. Neben Anwendungen wie Strukturtransfer bietet sich die photochemische Reaktion des Farbstoffs zur Charakterisierung von Nahfeldsonden an, wobei die zu schreibende Struktur vorgegeben wird und die i. a. sehr glatte, lichtempfindliche Schicht als ortsaufgelöster Detektor für das evaneszente Feld der Sonde dient. Wir zeigen hier erste Ergebnisse zum lokalen Bleichverhalten des Cyaninfarbstoffs mittels Fluoreszenzmessungen.

[1] A. Naber, H. Kock und H. Fuchs, Scanning, in Druck