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O: Oberflächenphysik

O 22: POSTER II

O 22.41: Poster

Mittwoch, 19. März 1997, 14:15–15:45, AULA

Steuerung des Benetzungsverhaltens von Wasserstoff–Filmen — •J. Klier1, R.N.J. Conradt1, B. B"ock1, L. Hansen1, M. Przyrembel2, S. Herminghaus1, and P. Leiderer11Universit"at Konstanz, Fakult"at f"ur Physik, Postfach 5560 M675, D–78434 Konstanz — 2Johannes–Gutenberg–Universit"at, Institut f"ur Physik, Staudinger Weg 7, D–55099 Mainz

Molekularer Wasserstoff stellt wegen seiner geringen Masse und der damit verbundenen hohen Nullpunktsbewegung ein besonders interessantes van der Waals–Adsorbat dar. Wir berichten hier "uber Untersuchungen, die van der Waals–Wechselwirkung von H2 mit festen Substraten (z.B. Ag) durch Vorplattieren mit einer d"unnen Schicht aus schwach polarisierbaren Atomen (z.B. Ne) zu reduzieren. Die "Anderung der Wechselwirkung spiegelt sich im Benetzungsverhalten des Wasserstoffs wider: W"ahrend H2 unterhalb des Tripelpunkts "ublicherweise nur unvollst"andig benetzt, l"aßt sich durch Plattieren des Substrats mit Ne ein "Ubergang zu vollst"andiger Benetzung induzieren. Die Charakterisierung der adsorbierten Schichten erfolgte mit Hilfe der Oberfl"achenplasmonenresonanz und einer neuen Methode, bei der Photoemission und Tunneln der Photoelektronen durch den physisorbierten Film kombiniert wird. Diese Ergebnisse haben wichtige Konsequenzen f"ur den Einsatz homogener d"unner Wasserstoff–Filme, so beim Neutrinoruhemassenexperiment in Mainz.
(gef"ordert im Rahmen des SFB 306)

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