Münster 1997 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 22: POSTER II

O 22.47: Poster

Wednesday, March 19, 1997, 14:15–15:45, AULA

Rastertunnelmikroskop f"ur Oberfl"achenuntersuchungen im Temperaturbereich von 4,2 bis 300 Kelvin — •D. Wehnes, J. Meier, J. Claßen, and C. Enss — Institut f"ur Angewandte Physik, Universit"at Heidelberg, Albert-Ueberle-Str. 3-5, D-69120 Heidelberg

Der Einsatz von Rastertunnelmikroskopen (RTM) bei tiefen Temperaturen hat in den letzten Jahren st"andig zugenommen. Wir diskutieren ein relativ einfach aufgebautes RTM, das in einem weiten Temperaturbereich von 4,2 bis 300 K eingesetzt werden kann. Dieses Mikroskop wird in einem He-Badkryostaten ohne zus"atzliche Stickstoffk"uhlung betrieben. Als Ann"aherung bei tiefen Temperaturen dient ein piezoelektrisch getriebener Linearmotor, der mit einer Schrittweite von 140 nm einen Gesamtweg von mehr als 10 mm zur"ucklegen kann. Die Position der Spitze relativ zur Probe kann mit einem induktiven Abstandsmesser auf 200 nm genau bestimmt werden. Der Aufbau erlaubt den Wechsel und die Bearbeitung von Proben bei tiefen Temperaturen. Es ist geplant, mit diesem RTM die Dynamik von Adsorbaten bei tiefen Temperaturen zu untersuchen. Wir zeigen erste Messungen an verschiedenen Proben bei Helium- und Stickstofftemperatur.