Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 27: Flüssigkeits- und Elektrodenoberflächen

O 27.10: Vortrag

Mittwoch, 19. März 1997, 18:15–18:30, PC 4

Quantitative Messung der lokalen Aufl"osung von Cu(100) in HCl durch in-situ STM — •O.M. Magnussen, M.R. Vogt, and R.J. Behm — Abteilung Oberfl"achenchemie und Katalyse, Universit"at Ulm, D-89069 Ulm

Die anodische Aufl"osung von Kupferelektroden in saurer L"osung ist von gro"ser Bedeutung f"ur die Kupferraffination und f"ur die Korrosionsforschung. F"ur Cu(100)-Elektroden in HCl haben wir k"urzlich gezeigt, da"s die durch adsorbiertes Cl gebildete c(2x2) Struktur zur Ausrichtung der Cu Stufen entlang der [010]-Richtungen f"uhrt und da"s die Cu-Aufl"osung durch Abl"osung von c(2x2)-Einheiten an den Halbkristallagen dieser Stufen erfolgt [1]. Die Rate des letzteren Prozesses wurde lokal durch eine neuartige, auf in-situ STM beruhende Methode bestimmt. Hierbei wird die Geschwindigkeit wandernder Halbkristallagen entlang der Stufe gemessen. Es wird gezeigt, da"s sich die mikroskopische Aufl"oserate nur auf solche Weise bestimmen l"a"st, da selbst geringste Bedeckungen adsorbierter Verunreinigungen die globale Aufl"oserate durch starke Pinning-Effekte beeinflussen.

[1] M.R. Vogt, C.M.Schilz, F.A. M"oller, O.M. Magnussen, R.J. Behm, Surf. Sci. Lett., in Druck