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O: Oberflächenphysik

O 30: Chemische Oszillationen

O 30.6: Talk

Thursday, March 20, 1997, 12:30–12:45, S 2

Isotopeneffekte im Musterbildungsbereich der NO+H2 Reaktion auf Rhodiumeinkristalloberflächen — •A. Schaak1, S. Shaikhutdinov2 und R. Imbihl11Institut fur Physikalische Chemie und Elektrochemie Universität Hannover, Callinstr 3-3a, 30167 Hannover — 2Boreskov Institute of Catalysis, Novosibirsk, Rußland

Mit Hilfe eines Photo-Elektronen-Emissions-Mikroskops (PEEM) wurde die NO+H2 Reaktion auf Rh(111) und Rh(110) untersucht. Diese zeigt in einem Bereich von 10−6mbar und 470K-610K Musterbildung durch chemische Wellen, Spiralen und Target Pattern werden gefunden.

Im Experiment mit H2 und D2 wurde ein Isotopeneffekt bei der Wellengeschwindigkeit und beim Existenzbereich der Musterbildung beobachtet. In Reaktions-Diffusionssystemen können Isotopeneffekte sowohl über den Reaktionsteil als auch über die Oberflächendiffusion entstehen. Bei dem einfacheren, bistabilen System O2+H2/Rh(110) konnten über die Krümmungsabhängigkeit der Frontgeschwindigkeit unterschiedliche effektive Diffusionskonstanten für Had und Dad bestimmt werden. Bei homogen ablaufender Reaktion zeigte sich kein Isotopeneffekt.

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