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O: Oberflächenphysik
O 35: Adsorption und Reaktionen von Oberflächen
O 35.10: Vortrag
Donnerstag, 20. März 1997, 18:15–18:30, S 2
Aktivierung und Reaktion von CO2 auf sauberen und K-dotierten kalt–niedergeschlagenen Cu-Filmen — •M. Pohl und A. Otto — Lehrstuhl für Oberflächenwissenschaft (IPkM), Heinrich–Heine–Universität Düsseldorf, Universitätsstr. 1, D–40225 Düsseldorf
Im UHV kalt–niedergeschlagene Kupferfilme besitzen im Gegensatz zu ausgeheilten Filmen ”aktive Plätze” zur Bildung des Radikal–Anions CO2δ − [1], das vielleicht ein Zwischenprodukt in der Methanolsynthese aus CO2 und H2 mit Hilfe von Cu/ZnO/Al2O3 Katalysatoren ist [2]. Bei diesen aktiven Plätzen handelt es sich um Defekte, die im Falle von reinen Kupferoberflächen bei Temperaturen von 150 K irreversibel ausheilen.
Auf kaliumdotierten kalt–niedergeschlagenen Kupferfilmen findet man nicht nur eine Aktivierung des Kohlendioxids sondern auch eine Reaktion zu einer einzähnig gebundenen Karbonatspezies. Diese beiden Spezies sind die einzigen, die bei Temperaturen zwischen ca. 100 und 350 K mittels Ramanspektroskopie nachgewiesen werden konnten.
Zur Zeit versuchen wir mittels Koadsorption von Kohlendioxid und atomar angebotenem Wasserstoff auf den K–dotierten Kupferfilmen eine Reaktion zu Formiat zu induzieren, welches wiederum das wichtigste Zwischenprodukt in der industriellen Methanolsynthese darstellt [2]. Wir werden über den Stand des Projekts berichten.
[1] W. Akemann und A. Otto, Surf. Sci., 272 (1992) 211; 287/288 (1993) 104
[2] M. S. Spencer, Surf. Sci. Lett., 339 (1995) L897