Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 4: Raster-Kraft-Mikroskopie I

O 4.7: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 11:00–11:15, BOT

Aufbau und Test eines UHV-Rasterkraftmikroskopes mit interferometrischer Auslenkungsdetektion — •P. Leinenbach¹, U. Memmert¹, M. Laerbusch², H.-A. Fuß², F. Saurenbach² und U. Hartmann³ — ¹Institut für Schicht- und Ionentechnik, KFA Jülich, D-52425 Jülich — ²Surface Imaging Systems, D-52134 Herzogenrath — ³FR Experimentalphysik, Universität des Saarlandes, D-66041 Saarbrücken

Ein UHV-AFM zur statischen Abbildung im Kontaktmodus und zur dynamischen Abbildung im kontaktlosen Modus von in-situ im UHV präparierten Oberflächen wurde aufgebaut und getestet. Die Auslenkung des Hebelarms wird mittels optischer Interferometrie detektiert. Aufgrund der kompakten Anordnung des optischen Interferometers ist auch nach Ausheizen des UHV-Systems keine Nachjustage der Detektionseinheit nötig. Das Gerät wurde im UHV durch die Abbildung dünner metallischer Filme getestet. Die Anwendung als Magnetkraftmikroskop an in-situ deponierten dünnen magnetischen Filmen wird diskutiert.