Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 41: Nanostrukturen

O 41.5: Vortrag

Freitag, 21. März 1997, 12:15–12:30, PC 4

Einfluß der Topographie auf die Adhäsion bei Messungen mit dem AFM — •Th. Stifter, E. Weilandt und O. Marti — Abteilung Experimentelle Physik, Universität Ulm, D-89069 Ulm

Mit dem AFM kann die Adhäsion zwischen Spitze und Probe mit lateraler Auflösung bestimmt werden. Dabei zeigt sich an rauhen Oberflächen ein Einfluß der Topographie auf die gemessenen Adhäsionswerte. Da man in der Praxis an der materialspezifischen Adhäsion interessiert ist, ist es notwendig dies ’Übersprechen’ der Topographie zu untersuchen. Mit Hilfe eines Modells soll versucht werden, theoretisch diese Veränderungen zu berechnen. Ausgangspunkt ist das Lennard-Jones Potential zwischen den Atomen. Aus diesem Potential läßt sich die Topographie und die Adhäsion ermitteln. Als Beispiel für Oberflächenstrukturen wurden ein Stufe (scharf) und eine Blase (kontinuierlich) untersucht. Bei beiden wurde die Topographie und die Adhäsion ortsaufgelöst berechnet. Die theoretischen Berechnungen wurden mit Messungen an HOPG (highly oriented pyrolytic graphite),der in verdünnten Elektrolytlösungen bei hohem Potential sowohl Stufen als auch Blasen an der Oberfläche aufweist, verglichen.