Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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TT: Tiefe Temperaturen

TT 19: Postersitzung III: Josephsonkontakte(1-25), SQUIDs, Sensoren, Detektoren(26-37), Supraleitung in Hochfrequenz und Elektronik(38-45), Präparation und Dotierung von HTSL(46-53), NMR und Ultraschall in HTSL(54-60), Thermodynamik, Magnetismus(61-68), Transporteigenschaften von HTSL(69-73), Spektroskopie, Ramanstreuung, param. Meissner-Effekt in HTSL(74-84), n-dotierte HTSL(85-91)

TT 19.1: Poster

Donnerstag, 20. März 1997, 15:30–19:00, Z1

Implantation von Sauerstoff in YBa₂Cu₃O₇ zur Herstellung von Josephson-Kontakten — •F. Kahlmann¹, C. Weber¹, J. Schubert¹, W. Zander¹, Ch. Buchal¹ und U. Hübner² — ¹Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, D-52425 Jülich — ²Institut für Angewandte Physik, Friedrich-Schiller-Universität Jena, Max-Wien-Platz 1, D-07743 Jena

Eine alternative Methode zur Herstellung von Josephsonkontakten stellt die lokale Schädigung durch Ionenimplantation dar. Dieses Verfahren verspricht “low technological complexity“  und hohe Reproduzierbarkeit. Es werden zunächst die Eigenschaften von YBCO-Filmen diskutiert, die mit O⁺-Ionen (Energie: 100 - 200 keV) in einem Dosisbereich von 1*10¹² bis 1*10¹⁵ Ionen/cm² implantiert wurden. Hierzu wurden die modifizierten YBCO-Filme strukturell (RBS/Channeling) und elektrisch charakterisiert. Es konnte gezeigt werden, daß sich die Übergangstemperatur in einem Dosisbereich von 1*10¹² bis 8*10¹³ Ionen/cm² zwischen 20K und 90K einstellen läßt. Zur Definition des Barrierenbereiches von Josephsonkontakten wurde eine Implantationsmaske aus PMMA-Lack verwendet, die mittels Elektronenstrahllithographie strukturiert wurde. Die untersuchten Kontakte zeigen RSJ-artiges Verhalten. Ferner wurden Shapiro-Stufen und die Modulation der Shapiro-Stufenhöhe mit der Mikrowellenleistung gemessen.