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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Ausgasung, Passivierung

VA 3.1: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 16:00–16:20, ZH

Plasmaimmersions-Ionenimplantation von Stickstoff in Edelstahl zur Modifikation der Gasabgabe — •Michaela Schulz¹, Bernd Garke¹, Norbert Schindler¹, Reinhard Günzel² und Christian Edelmann¹ — ¹Otto-von-Guericke-Universität Magdeburg, FNW/IEP/AVP, PF 4120, 39016 Magdeburg — ²Forschungszentrum Rossendorf e.V., Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung, PF 510119, 01314 Dresden

Mit Hilfe der Plasmaimmersions-Ionenimplantation wird Stickstoff in Edelstahloberflächen eingebaut mit dem Ziel, die Abgabe von Gasen zu beeinflussen. Es zeigte sich bei oberflächenanalytischen Untersuchungen, daß die Einbautiefe des Stickstoffs bei der Implantation stark durch die Probentemperatur beeinflußt wird. Nur bei hinreichend niedriger Temperatur werden die Stickstoffionen entsprechend ihrer Energie implantiert, ansonsten dominiert Diffusion. Die Implantationsparameter wurden dahingehend optimiert, diese Diffusion zu verhindern. Die chemische Konzentrationsverteilung in der Edelstahloberfläche der modifizierten Proben wurde mittels ESCA- und AES-Untersuchungen analysiert. Von ausgewählten Proben wurden Gasabgabemessungen durchgeführt, um Einflüsse der Implantation auf das Gasad- und -desorptions- sowie -diffusionsverhalten zu ermitteln.