VA 3: Ausgasung, Passivierung
Montag, 17. März 1997, 16:00–17:20, ZH
 |
16:00 |
VA 3.1 |
Plasmaimmersions-Ionenimplantation von Stickstoff in Edelstahl zur Modifikation der Gasabgabe — •Michaela Schulz, Bernd Garke, Norbert Schindler, Reinhard Günzel und Christian Edelmann
|
|
|
|
16:20 |
VA 3.2 |
Gasabgabemessungen mit einem reproduzierbar einstellbaren,regelbaren Leitwert — •Volker Hauer, Olaf Dill und Christian Edelmann
|
|
|
|
16:40 |
VA 3.3 |
Untersuchungen zur Wasserstoffabgabe verschiedener Graphitsorten — •Detlef Schleußner, Jörn Becker, Christian Edelmann, Rainer Behrisch und Peter Franzen
|
|
|
|
17:00 |
VA 3.4 |
Room temperature growth and characterisation of SiO2 passivation layers by plasma enhanced evaporation in the UHV — •A. Strass, A. Fischer, W. Hansch, P. Bieringer, A. Neubecker, and I. Eisele
|
|
|