Bayreuth 1998 – wissenschaftliches Programm

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K: Kurzzeitphysik

K 4: Laser-Systeme und -Anwendungen

K 4.6: Vortrag

Dienstag, 10. März 1998, 15:15–15:30, H8

Reinigung kontaminierter Oberflächen mit Hilfe eines Excimerlasers — •Karl-Heinz Steglich und Hermann Harde — Universität der Bundeswehr Hamburg, Lasertechnik und Werkstoffkunde, Holstenhofweg 85, 22043 Hamburg

Es werden Möglichkeiten zur Reinigung von kontaminierten Oberflächen, insbesondere Lackschichten, mit Hilfe eines KrF-Excimerlasers vorgestellt (λ = 248 nm). Ziel ist eine schonende Bearbeitung ohne größere Beeinträchtigung der Oberflächenstruktur. Maßgebliche Parameter für eine Oberflächenbehandlung sind die Pulsform, Pulsdauer, Energiedichte und Anzahl der Pulse. Fehlanpassungen dieser Größen können zur vollständigen Zerstörung oder Verdampfung der Schicht führen. Bei geeignetem Abgleich wird ein Abtrag dünner Schichten von nur wenigen Mikrometern Tiefe realisiert (5 - 10 µ m).

Das Target wird dazu mit einem fokussierten Strahlprofil flächig abgescannt. Jede Position wird mit wenigen Pulsen (Pulsdauer ca. 15 ns) definierter Intensität bestrahlt. Erprobungen an speziell kontaminierten Polyurethan-Oberflächen lieferten eine Desorptionsrate von über 90 %.