Bayreuth 1998 – scientific programme
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P: Plasmaphysik
P 29: Diagnostik (Poster)
P 29.17: Poster
Tuesday, March 10, 1998, 16:00–18:00, P 2
Abschätzung der Plasmaparameter (ne, Te) der kapazitiv gekoppelten HF- Entladung mittels der Brenn- und Biasspannung sowie der Dunkelraumdicke — •F. Hempel, R. Foest, M. Hannemann und M. Schmidt — Institut für Niedertemperatur- Plasmaphysik e.V. an der EMA- Universität Greifswald
Ausgehend vom Modell der schichtbestimmten, kapazitiv gekoppelten, unsymmetrischen HF- Entladung von Köhler et al. (J. Appl. Phys.57 (1985) 59) erfolgte eine Berechnung der Schichtparameter an der heißen Elektrode sowie der geerdeten Elektrode/Wand bei bekannter Reaktorgeometrie unter Verwendung von Meßwerten für die HF- Brennspannung, die Biasspannung sowie die Dunkelraumdicke vor der heißen Elektrode. Die Untersuchungen erfolgten an einer Ar- HF- Entladung in einem Planarreaktor (p = 0.1 - 0.7 mbar, P = 30 - 120 Watt, f = 13.56 MHz). Die Dunkelraumdicke wurde mit Hilfe einer Video–Kamera vermessen. Die Kenntnis der Schichtparameter ermöglicht über das Child–Langmuir–Gesetz die Berechnung der Parameter der Wandschicht. Bei Annahme einer Direktionisation und einer Maxwellverteilung der Elektronen kann über eine Ladungsträgerbilanz Te und ne bestimmt werden. Diese Werte stimmen mit Ergebnissen von Langmuir- Sondenmessungen bis auf einen Faktor 2 überein.