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SYB: Symposium Polymere und kleine Moleküle an Grenzflächen

SYB III: HV III

SYB III.1: Hauptvortrag

Dienstag, 10. März 1998, 17:20–18:00, H18

Chemische Rasterkraftmikroskopie - Moeglichkeiten und Grenzen — •Georg Haehner — Laboratory for Surface Science and Technology, ETH Zuerich, CH-8092 Zuerich

Es gibt verschiedene Ansaetze, die Rasterkraftmikroskopie zu einer nicht-destruktiven analytischen Technik zu erweitern, die neben der hohen lateralen Ortsaufloesung auch chemische Information ueber das System liefert. Einige dieser Moeglichkeiten sollen vorgestellt und ihre Grenzen diskutiert werden, so z. B. das Aendern von Parametern des umgebenden Mediums, in dem gemessen wird, oder das Funktionalisieren der Spitze. Neben Resultaten zu pH-Wert abhaengigen Untersuchungen von Oxidoberflaechen in Elektrolyten werden auch solche gezeigt, die mit funktionalisierten Spitzen auf verschiedenen organischen Monolagen erzielt wurden. Chemische Information koennen dabei sowohl Bilder, die im Lateralkraftmodus aufgenommen wurden, als auch sogenannnte Kraft-Distanzkurven liefern.