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T: Teilchenphysik

T 209: Spurkammern II

T 209.2: Vortrag

Dienstag, 24. März 1998, 08:45–09:00, HS J

Optimierung von Gas-Elektron-Multipliern (GEM) — •Steffen Beirle, Ulrich Werthenbach, Günter Zech und Torsten Zeuner — Fachbereich Physik, Universität Siegen, 57068 Siegen

Mit beidseitig metallisierten Polyimid-Folien von etwa 50 Mikrometer Dicke können in lithographisch erzeugten Löchern bei Anlegen einer Spannung von etwa 500V zwischen den Metallflächen Gasverstärkungen von ca. 1000 erreicht werden. GEMs werden in Verbindung mit MSGCs verwendet, in denen die Signale weiter verstärkt und ausgelesen werden. Eine wesentliche Verbesserung der GEM-Funktion läßt sich durch Beschichtung der Polyimidoberflächen der Löcher nit Kohlenstoff erreichen. Die Gasverstärkung wird unabhängig von Einschalteffekten und von der Bestrahlungsrate. Die Energieauflösung wird besser, da sich Schwankungen in den Lochdurchmessern weniger stark auf die Feldstärke auswirken. Die Beschichtung ermöglicht es, dickere Folien zu verwenden und damit größere Gasverstärkungen zu erreichen. Damit kann auf einen zweiten Verstärkungsschritt in einer MSGC verzichtet und eine einfache Anodenstruktur zur Auslese verwendet werden. Berichtet wird über die Meßergebnisse und Feldsimulationen.