Konstanz 1998 – scientific programme
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MO: Molekülphysik
MO 14: Methoden
MO 14.3: Talk
Thursday, March 19, 1998, 14:30–14:45, M627
2D-Massenspektroskopie zur Identifizierung chemischer Zwischenprodukte bei der a-Si:H Dünnschichtabscheidung — •Ewa Witkowicz, Gudrun Andrä, Fritz Falk, Jens Meinschien und Herbert Stafast — Institut für Physikalische Hochtechnologie, Helmholtzweg 4, 07743 Jena
Bei der Dünnschichtabscheidung von amorphem,
Silicium (a-Si:H) auf einem Substrat ausgehend von
Monosilan treten verschiedene Radikale auf. Die Natur der
Radikale hängt von der Art der Molekülanregung und
damit der Zersetzung von Silan (Primärprozes) sowie den
Sekundärreaktionen ab. Eine definierte Primärreakion,
SiH4 —→ SiH2 + H2
wird durch CO2-Laseranregung erzielt. SiH2 reagiert
mit SiH4 weiter zu hochschwingungsangeregtem
Disilan . Dieses zerfällt gemäß
Si2H6∗ —→ H3SiSiH + H2
und isomerisiert nachfolgend zu H2SiSiH2 . Das
symmetrische Disilen wird als schichtbildende Spezies
postuliert. Der experimentelle Nachweis von Si2H4 ist
Gegenstand von Untersuchungen. Dabei soll resonante
Multiphotoionisierung (REMPI) neben der Ionenmasse zur
Identifizierung der Radikale genutzt werden.