Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

Q: Quantenoptik

Q 19: Poster Ib: Atomoptik

Q 19.6: Poster

Dienstag, 17. März 1998, 16:00–18:00, PF

Nanolithographie mit einem Cäsiumatomstrahl — •F. Lison¹, H.-J. Adams¹, D. Haubrich¹, F. Lison¹, S. Nowack² und D. Meschede¹ — ¹Institut für Angewandte Physik, Universität Bonn, Wegelerstr. 8, 53115 Bonn — ²Fakultät für Physik, Universitätsstr. 10, Universität Konstanz, D-78434 Konstanz

Wir berichten über Experimente zur Lithographie mit einem transversal lasergekühlten thermischen Cäsium-Atomstrahl. Eine optische Stehwelle unmittelbar vor einem goldbeschichteten Substrat dient als Zylinderlinsenfeld und fokussiert die durchfliegenden Cäsiumatome in Linien mit einem Abstand von λ/2 = 426 nm. Eine auf das Gold aufgebrachte selbst-anordnende molekulare Monolage (Self Assembling Monolayer) aus Nonanthiol (CH₃(CH₂)₈SH) dient als Resist. An den belichteten Stellen kann während des nachfolgenden chemischen Ätzprozesses die Goldschicht entfernt werden. Die Linienbreite der erzeugten Gräben wurde anhand von AFM-Aufnahmen bestimmt und ist kleiner als 100 nm. Eine numerische Simulation der atomaren Trajektorien gibt Aufschluß über den Einfluß von transversaler und longitudinaler Geschwindigkeitsverteilung der Atome, sowie Verstimmung und Intensität der optischen Stehwelle auf die minimal zu erwartende Linienbreite.

(Gefördert durch das BMBF, FKZ 13N6636).