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AM: Magnetismus

AM 19: Dünne magnetische Schichten und Vielfachschichten, magnetooptische Schichten V

AM 19.3: Vortrag

Donnerstag, 26. März 1998, 17:00–17:15, H10

Erzeugung von Nanomagneten durch Schrägbedampfung selbstorganisierter Halbleitersubstrate — •C. Teichert^1,2, J. Barthel¹, H. P. Oepen¹ und J. Kirschner¹ — ¹MPI für Mikrostrukturphysik, Weinberg 2, D-06120 Halle — ²Jetzt: Inst. f. Physik, Montanuniversität Leoben, A-8700 Leoben, Austria

Die Herstellung magnetischer Datenspeicher hoher Speicherdichte erfordert die großflächige Erzeugung von magnetischen Nanostrukturen. Als effektives Verfahren zur Fabrikation solcher Anordnungen von Nanomagneten bietet sich die Schrägbedampfung von selbstorganisierten, facettierten Halbleitersubstraten an.

Auf {105} facettierte Oberflächen von selbstorganisierten SiGe–Schichten auf Si(001) [1] werden mittels Pulsed–Laser–Deposition Cu/Co/Cu–Schichten abgeschieden. Durch Schrägbedampfung in geeigneter Geometrie erreicht man, daß nur Facetten einer Orientierung mit einem ca. 2 nm dicken Co-Film bedeckt werden. Definiert durch das Substrat ergeben sich isolierte Nanomagnete mit lateralen Abmessungen von 25 nm x 35 nm. Die Flächendichte der Magnete beträgt ca. 4 x 10¹⁰/cm². Mittels longitudinalem magneto–optischem Kerr–Effekt wurde eine deutliche uniaxiale Anisotropie der in–plane Magnetisierung der Nanomagnete festgestellt.

[1] C. Teichert, Y. H. Phang, L. J. Peticolas, J. C. Bean, and M. G. Lagally, “Surface Diffusion: Atomistic and Collective Processes“, Ed. M. C. Tringides, NATO-ASI Series, Plenum Press, New York 1997, p. 297.