Regensburg 1998 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 10: Charakterisierungsverfahren I

DS 10.3: Fachvortrag

Tuesday, March 24, 1998, 17:15–17:30, H 31

Untersuchung von XPS-TOF Analysen mit Pinchplasma-Röntgenquellen — •O. Rosier¹, K. Bergmann¹, G. Schriever¹, G. Schönhense², M. Merkel² und R. Lebert¹ — ¹Lehrstuhl für Lasertechnik, Aachen — ²Focus GmbH, Hünstetten

Die Photoelektronen-Spektroskopie (XPS) ist ein Oberflächenanalyse Verfahren. Die in der herkömmlichen XPS benutzte Methode der kontinuierlichen Anregung wird hier durch eine gepulste Anregung gefolgt von einer Flugzeitmessung (TOF) der emittierten Elektronen ersetzt. Als gepulste Röntgenquelle dient ein Pinchplasma. Detektiert werden die Photoelektronen von einer MCP. Flugzeit der Elektronen und Bandbreite der anregenden Strahlung bestimmen u.a. die Energieauflösung der XPS-TOF Analyse. Die Flugzeit kann zum einem durch Längenänderung der Flugstrecke, und zum anderen durch elektrostatische Abbremsung der Elektronen variiert werden. Es wird erwartet, daß durch den Einsatz von Elektronen-Optiken, die neben dem Abbremsen auch einen Grossteil der in den Halbraum vor der Probe emittierten Elektronen erfassen, eine deutliche Zunahme der Signalintensität und der Zeitauflösung erreicht wird. Experimentelle Ergebnisse an einem Ne-Pinchplasma, das ≥ 10¹⁵ Phot/sr mit einer Pulsdauer ≤ 10 ns bei Photonenenergien um 1000 eV emittiert, werden vorgestellt.