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DS: Dünne Schichten

DS 23: Laserverfahren III

DS 23.3: Fachvortrag

Freitag, 27. März 1998, 11:45–12:00, H 31

Carbonnitrid-Schichtabscheidung in variablen Prozeßatmosphären mit einem HF-PLD-Hybridverfahren — •M. Maier, T. Klotzbücher, D.A. Wesner und E. W. Kreutz — RWTH Aachen, Lehrstuhl für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Carbonnitrid-Schichten können durch Abtrag von Graphit-Targets mittels gepulster KrF-Excimer-Laserstrahlung (λ=248 nm) in N₂-Atmosphären abgeschieden werden. Durch Einkopplung eines hochfrequenten (13,56 MHz) elektrischen Wechselfeldes am Substrat werden unter Ausbildung einer Niederdruckgasentladung mit negativem DC-bias N₂⁺-Ionen auf die wachsende Schicht beschleunigt, um den Stickstoffanteil in den Schichten zu erhöhen. XPS-Untersuchungen zeigen, daßhohe Substrattemperaturen zur Bildung stickstoffverarmter Schichten führen. Zur Unterdrückung der Aufheizung des Substrats durch Dissipation elektrischer Energie an der Substratelektrode wird daher eine Substratkühlung verwendet. Die Schichtabscheidung erfolgt einerseits in kombinierten Edelgas/N₂-Atmosphären, um den Einflußdes Impulstransfers der die Schicht bombardierenden Ionen auf die Bildung metastabiler Phasen zu bestimmen. Andererseits wird das Prozeßgas N₂ bei höheren Substrattemperaturen mit reaktiven Gasen wie O₂ und H₂ kombiniert, um zu untersuchen, inwieweit sp²-artiger Kohlenstoff selektiv gegenüber sp³-gebundenem Kohlenstoff geätzt werden kann.