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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.14: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 15:00–19:00, PF A

Nanostrukturierung von dünnen Filmen aus amorphem Kohlenstoff durch feldinduzierte Oxidation im Rasterkraftmikroskop — •Thomas Mühl¹, Hubert Brückl², Dieter Kraut¹ und Günter Reiss² — ¹Institut für Festkörper- und Werkstofforschung, Postfach 270016, D–01171 Dresden — ²Universität Bielefeld, Fakultät Physik, Universitätsstr. 25, D–33615 Bielefeld

Aus der Literatur ist die vorzügliche Eignung von amorphem Kohlenstoff als Material für Ätzmasken bekannt. In diesem Beitrag soll die Methode der lokalen Oxidation von amorphem Kohlenstoff im elektrischen Feld der leitfähigen Sonde eines Rasterkraftmikroskopes vorgestellt werden. Auf diese Weise können Strukturen mit Breiten von unter 50 nm erzeugt werden. Die Geometrie der entstehenden Strukturen ist von den Prozeßparametern abhängig, insbesondere die Spannungabhängigkeit wird gezeigt. Darüber hinaus wird auf Anwendungsmöglichkeiten dieser neuen Lithographiemethode hingewiesen.