Regensburg 1998 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.43: Poster

Thursday, March 26, 1998, 15:00–19:00, PF A

Ex-situ und in-situ Spektralellipsometrie an ZnO:Al Schichten — •T. Staedler¹ und Michael Vergoehl² — ¹IST FhG Bienroder Weg 54e 38108 Braunschweig — ²IST FhG

Mittels reaktivem Mittelfrequenz-Magnetronsputtern wurden verschiedene ZnO:Al-Schichten hergestellt und mit Hilfe von ex-situ Spektralellipsometrie und Spektrophotometrie charakterisiert. Die Modellierung der optischen Spektren erfolgt mit Hilfe eines Drude-Lorentz-Oszillatormodells im Spektralbereich zwischen 350 und 850nm. Die ellipsometrisch gefundenen Oberflächenrauhigkeiten und Interface-Schichten wurden durch weitere Verfahren (SIMS, REM, AFM und XRD) überprüft. Mit Hilfe unseres Modells lassen sich sämtliche Schichten beschreiben, die bei Substrattemperaturen zwischen Raumtemperatur und 300 Grad, mit Sauerstoff-Flüssen zwischen dem metallischen und dem oxidischen Mode hergestellt wurden. Die infolge der Nukleation auftretende Änderung des Brechungsindex mit wachsender Schichtdicke wurde mit der Voidkonzentration korreliert. Mit diesem Modell ist es werden dann in-situ Spektroellipsometriedaten wachsender ZnO:Al-Schichten interpretieren.