Regensburg 1998 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 24: Postersitzung
DS 24.47: Poster
Thursday, March 26, 1998, 15:00–19:00, PF A
Planarisierung miniaturisierter Nb-Schaltungen durch
Chemisch-Mechanisches Polieren (CMP) — •M. Neuhaus, M. Götz, G. Eßer, T.A. Scherer und W. Jutzi — Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik, Universität Karlsruhe
Integrierte Supraleiterschaltungen mit Nb-AlOx-Nb-Josephson-Kontakten werden mit Erfolg im Sensorbereich (SQUIDs, Gradiometer,...) und für digitale Anwendungen (Schieberegister, Zähler,...) eingesetzt. Die zunehmende Komplexität dieser Schaltungen mit 8 oder mehr Metallisierungs- und Isolationsebenen führt zu einer ausgeprägten „Manhattan“-Topologie, die Kantenabrisse und Kurzschlüsse verursachen kann.
Das in der Halbleiterfertigung bereits etablierte Verfahren der CMP-Planarisierung scheint geeignet, auch bei integrierten Niob-Schaltungen die gewünschten lokalen Kantenverrundungen bis hin zur globalen Planarisierung der gesamten Strukturoberfläche zu erreichen.
Vorgestellt werden erste Ergebnisse für CMP von SiO- bzw. SiO2-Schichten
auf 2“-Silizium-Substraten. Neben der globalen
Planarisie-
rungseffizienz werden
lokale Auswirkungen des CMP-Prozesses anhand unterschiedlicher Geometrien der
vom Dielektrikum bedeckten Nb-Strukturen demonstriert. Die meßtechnische
Charakterisierung umfaßt dynamische Laserstrahlfokussierung, Ellipsometrie
und hochauflösende Profilometrie. Der Einfluß wesentlicher Polierparameter
auf Rate und Homogenität des Basisabtrags wird verdeutlicht.