Regensburg 1998 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.4: Poster

Thursday, March 26, 1998, 15:00–19:00, PF A

In-situ Untersuchungen an dünnen Schichten mit Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie — •Jens Klimke, Lutz Fischer und Harm Wulff — Univ. Greifswald, Inst. für Physikalische Chemie, Soldtmannstr. 23, 17489 Greifswald

Vorgestellt wird ein Analysensystem zur Untersuchung des thermischen Verhaltens dünner Schichten durch Kombination von Röntgenreflektometrie (GIXR) und Röntgendiffraktometrie (GIABD) bei streifendem Einfall, unter Verwendung eines Theta-Theta Röntgendiffraktometers mit Hochtemperaturkammer. An ca. 50-150 nm dicken Schichten (Al, Ti, TiN) auf Silizium- Wafern, wurden Interfacereaktionen, Kristallisationsvorgänge und Phasenumwandlungen beim Tempern im Vakuum untersucht. Durch die Kombination von GIXR und GIABD werden sowohl amorphe, als auch kristalline Schichten erfaßt. Daher eignet sich diese Methode besonders zur Verfolgung thermisch induzierter Kristallisationsvorgänge an amorph abgeschiedenen Schichten. Anhand der Daten werden Schichtmodelle aufgestellt und diskutiert.