Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.50: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 15:00–19:00, PF A

Ortsauflösende Reflexionsmessungen an Multischicht-Röntgenspiegeln bei λ = 13,5 nm — •A. Aschentrup, S. Rahn, O. Wehmeyer, U. Kleineberg und U. Heinzmann — Molekül– und Oberflächenphysik, Universität Bielefeld, Universitätsstr. 25, D-33615 Bielefeld

In einem laserinduzierten Li-Plasma wird u. a. weiche Röntgenstrahlung erzeugt, die eine schmalbandige Emissionslinie bei 13,5 nm aufweist. Um die optischen Komponenten vor Plasma-Debris zu schützen, wird das Plasma unter Kr-Puffergas (0,5 mbar) betrieben. Zusätzlich trennt ein für sichtbares Licht undurchlässiges, ultradünnes Fenster den Plasmabereich vom Reflektometer. Die weiche Röntgenstrahlung wird von einem ellipsoidalen Kondensorspiegel, der mit einer Mo/Si-Multischicht mit lateral variierender Periodendicke beschichtet wurde, auf die Probe fokussiert (Spotgröße im Fokus: 30 µm). Die von der zu vermessenden Probe reflektierte Strahlung wird von einer röntgenempfindlichen CCD-Kamera erfaßt. Aus diesen Aufnahmen erhält man Informationen über die relative Reflektivität und die Periodendicke der Probe. Es wurden Mo/Si-Röntgenspiegel mit homogener ebenso wie mit variierender Schichtdicke (graded multilayer) oder mit Lateralstrukturierung untersucht. Der Aufbau ist auch für das Vermessen konkaver und konvexer Proben geeignet.