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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.52: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 15:00–19:00, PF A

Analytische Feldionenmikroskopie von Cu/Nb-Vielfachschichten — •J. Schleiwies¹, P. Troche¹, K. Noerthemann², M. Peuker² und G. Schmitz¹ — ¹Institut für Metallphysik, Universität Göttingen, Hospitalstraße 3-7, D-37073 Göttingen — ²Forschungseinrichtung Röntgenphysik, Geiststraße 11, D-37073 Göttingen

Die Nanostrukturierung von Materialien gewinnt aufgrund ihrer besonderen physikalischen Eigenschaften, wie z.B. Leitfähigkeit oder GMR, immer mehr an Bedeutung. Das direkte Einlagern von Nanoteilchen gestaltet sich indes schwierig, wohingegen die thermisch aktivierte Umstrukturierung von Lamellen zu Kugeln eines unmischbaren Systems, hier Cu/Nb, handhabbar ist. Am Beispiel von Cu/Nb-Multischichten mit Schichtdicken (50nm/50nm) und (15nm/3nm) werden erste Ergebnisse der Untersuchung der Mikrostruktur und die chemische Charakterisierung an der Grenzfläche mit der analytischen Feldionenmikroskopie vorgestellt. Zur Präparation der FIM-Spitzen wurde eine Methode entwickelt, um mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie Proben aus planaren Schichten zu strukturieren. In dieser Probengeometrie ist eine atomare Analyse im Feldionenmikroskop parallel zur Grenzfläche möglich. Das traditionelle Aufbringen von Metallschichten durch Sputtern oder PVD auf einen Spitzenrohling bedeutet häufig das Abreißen der gesamten Kappe bei höheren elektrischen Feldern im FIM. Das neue Verfahren bietet nun eine deutlich stärkere mechanische Belastbarkeit der Spitze.