Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Postersitzung

DS 24.9: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 15:00–19:00, PF A

Schichtspannungen optischer Dünnschichten — •T. Flügel, P. Schlott und F. Richter — LS Physik fester Körper, TU Chemnitz

Das reaktive Magnetronsputtern ermöglicht die Herstellung optisch hochwertiger amorpher Schichten. Aus neuen Strukturzonenmodellen ist bekannt, daß sich diese Materialien in Abhängigkeit vom Energieeintrag oder des Impuls verschieden ausbilden. Durch den prozeßbedingten Ionenbeschuß werden die Schichten verdichtet, was zu Druckspannungen führt. Auf sehr dünnen Objekten abgeschieden, ergeben sich Probleme durch die Verformung. Ziel unserer Untersuchungen ist das Erkennen wesentlicher Parameter zur Herstellung optischer Schichten mit definierter Eigenspannung.

Am Beispiel des hochbrechenden Nioboxids wird die Untersuchung des Zusammenhangs zwischen den Beschichtungsparametern und der resultierenden Schichtspannung dargelegt. Die Druckspannungen konnten durch Vermeidung der Ionenbelastung verringert werden. Es werden Vorschläge zur Gestaltung einer Beschichtungsanordnung unterbreitet, welche die Abscheidung spannungsarmer optischer Schichten erlaubt.

Das Prinzip der Spannungsmessung wird beschrieben. Da das Interesse dieser Untersuchung den Eigenspannungen optischer Schichten (d< 100 nm) galt, sollen spezielle Möglichkeiten der Untersuchung geringer Schichtspannungen (10 MPa) aufgezeigt werden. Die Grenzen bezüglich Einsatz und Auflösung dieser Meßverfahren werden diskutiert.