Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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HL: Halbleiterphysik

HL 24: Poster II

HL 24.105: Poster

Mittwoch, 25. März 1998, 10:30–19:00, A

Elektronenholographische Untersuchung von submikrometer MOSFET-Strukturen. — •Wolf-Dieter Rau — Institut fuer Halbleiterphysik, Walter Korsing Str. 2, 15230 Frankfurt (Oder)

Im Gegensatz zur konventionellen Elektronenmikroskopie (HRTEM) ermöglicht die Elektronenholographie eine lokale Bestimmung der Phase der Bildwelle. Neben physikalischer Grundlagenforschung lässt sich die Elektronenholographie zur Untersuchung schwer zugänglicher Fragestellungen in der Halbleitertechnologie einsetzen: Bei der Herstellung hochintegrierter Schaltkreise beinhalten mehr als 30% aller Schritte die mikroskopische Erzeugung und Manipulation amorpher Materialien. Eigenschaften wie Grenzflächenbeschaffenheit, Dichte oder Dicke solcher amorphen Strukturen, die mit Hilfe konventioneller Abbildung nur schwer zu messen sind, können direkt aus der Bildwellenphase bestimmt werden, wie am Beispiel der Charakterisierung geschichteter Gateoxide gezeigt wird. Unter geeigneten experimentellen Bedingungen spiegelt die Bildwellenhase die elektrische Potentialverteilung im Objekt wieder. Über die Poissongleichung kann dann auf das eingebrachte Dotierprofil rückgeschlossen werden. Die erfolgreiche Anwendung der Holographie kann somit erstmalig ein direktes Messverfahren zur zweidimensionalen Bestimmung dieser Dotierprofile mit lateraler Auflösung in nm- Bereich darstellen. Möglichkeiten und Grenzen sowie der experimentelle Stand werden dargestellt.