Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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HL: Halbleiterphysik

HL 24: Poster II

HL 24.21: Poster

Mittwoch, 25. März 1998, 10:30–19:00, A

Lithografie auf Halbleitern, Isolatoren und Metallen mit dem Rasterkraftmikroskop — •U. Röder, B. Klehn und U. Kunze — Lehrstuhl für Werkstoffe der Elektrotechnik, Ruhr Universität Bochum, D-44780 Bochum

Ein Rasterkraftmikroskop mit vibrierender Spitze wird mittels einer lithografischen Steuerung nach dem Vektor-Scan-Verfahren zur Nanostrukturierung eines 5 nm dicken Fotolackfilmes eingesetzt. Mittels naßchemischer Ätzen werden die freigelegten Linienmuster ins Substrat (GaAs, Si, SiO₂, Cr, Ti) übertragen. Wir präsentieren geätzte Linienstrukturen mit minimalen Breiten zwischen 25 und 70nm.