Regensburg 1998 – scientific programme

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HL: Halbleiterphysik

HL 24: Poster II

HL 24.42: Poster

Wednesday, March 25, 1998, 10:30–19:00, A

Optische Nahfeld-Reflektionsspektroskopie an Halbleiternanostrukturen — •W. Langbein¹, J.M. Hvam¹, and S.M. Madsen² — ¹Mikroelektronik Centret, The Technical University of Denmark, Building 345 east, DK–2800 Lyngby, Denmark — ²DME - Danish Micro Engineering A/S, Transformervej 12, DK–2730 Herlev, Denmark

Wir stellen eine neuartige optische Nahfeldtechnik vor, die lokale Polarisierbarkeiten einer topographisch ebenen Probe mit einer Ortsauflösung besser als 100 nm mißt. Wir benutzen ein umgebautes Rasterkraftmikroskop mit einer unbeschichteten Glasfaserspitze in Scherkraftregelung. Um Untergrundsignale durch Fernfeldreflektionen zu unterdrücken, detektieren wir die kreuzpolarisierte Komponente des internen Faserrückreflexes. Dieses Signal wird in Phase mit der Schwingungfrequenz der Faser detektiert, wodurch topographische Artefakte unterdrückt werden. Wir demonstrieren die Leistungsfähigkeit dieser Technik an oberflächennahen Quantenfilmen, relaxierten Si-Ge Oberflächen, und GaAs T-förmigen Quantendrähten.