Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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HL: Halbleiterphysik

HL 24: Poster II

HL 24.45: Poster

Mittwoch, 25. März 1998, 10:30–19:00, A

Optische Streuung in mikrokristallinem Silizium aus hot-wire CVD — •P. Reinig, R. Brüggemann und G.H. Bauer — Fachbereich Physik, Carl von Ossietzky Universität Oldenburg

Mikrokristalline Siliziumfilme (µc-Si) aus hot-wire CVD zeigen im Spektralbereich von 600 nm bis 1600 nm optische Streuung. Wir berichten über totale und gerichtete Reflexions-/Transmissionsmessungen, aus denen wir die raumwinkelintegrierte Streuung der Filme bestimmen, welche mit der Schichtdicke korreliert. Diese Schichtdickenabhängigkeit findet sich auch in der winkelaufgelösten Streulichtmessung wieder. Wie aus rasterelektronenmikroskopischen Aufnahmen zu sehen ist, wächst mit Zunahme der Filmschichtdicke der Grad der Oberflächenstrukturierung. Die morphologische Änderung der Oberfläche durch mechanische Politur der Probe ermöglicht eine Separation der Beiträge zur Streuung in Oberflächen- und Volumenanteil.