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HL: Halbleiterphysik
HL 35: III-V Halbleiter
HL 35.9: Talk
Thursday, March 26, 1998, 18:30–18:45, H17
Lichtemittierende Dioden auf der Basis amorpher Silizium-Suboxide — •R. Janssen1, A. Janotta1, U. Karrer1, D. Dimova-Malinovska2 und M. Stutzmann1 — 1Walter Schottky Institut, TU München, Am Coulombwall, D-85748 Garching — 2Central Laboratory for Solar Energy and New Energy Resources, Bulg. Acad. Sci., blvd. Tzarigradsko Chaussee 72, 1784 Sofia, Bulgaria
Optische Absorptionsmessungen an unbehandelten und getemperten intrinsischen Suboxidschichten mittels photothermischer Deflektionsspektroskopie zeigen eine Abnahme der Defektabsorption in der Bandlückenmitte um etwa eine Grössenordnung bei Ausheiltemperaturen von 250∘ C. Eine geringere Defektdichte der getemperten Suboxide wurde auch durch Elektronen-Spinresonanz-Messungen bestätigt. Die Herstellung von Suboxiddioden erfolgt auf TCO-beschichtetem Glassubstrat. Dabei führt wiederum eine Temperung der Suboxiddioden bei 250∘ C zu einer erhöhten Stromdichte in Vorwärtsrichtung und zu einer Verschiebung des Intensitätsmaximums der Elektrolumineszenz zu grösseren Photonenenergien. Dies lässt sich zurückführen auf eine Verringerung der Rekombination an Defekten und damit einen zunehmenden Anteil an Band-zu-Band Rekombination und verbessert die Einsatzmöglichkeit von Suboxiddioden als Lichtemitter auf Si-Basis für die dreidimensionale Integration in Silizium-Bauelementen. Weiterhin werden analoge Untersuchungen an Suboxiddioden nach einer Implantation von Er3+ Ionen in die intrinsische Schicht der Dioden vorgestellt.