DPG Phi
Verhandlungen
Verhandlungen
DPG

Regensburg 1998 – scientific programme

Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help

M: Metallphysik

M 16: Diffusion

M 16.6: Talk

Tuesday, March 24, 1998, 17:10–17:30, H 39

Diffusion von Gold in Si–Ge-Schichten — •R. Fischer1, P. Scharwaechter1, K. Lyutovich2, W. Frank1 und ISOLDE-Kollaboration31MPI f. Metallf., Stuttgart, und Inst. f. Theor. u. Angew. Phys. der Univ. Stuttgart — 2MPI f. Festkörperf., Stuttgart — 3CERN, Genf

Die Diffusion von implantiertem 195Au in epitaktisch aus der Gasphase hergestellten Si1−yGey-Schichten (y ≤ 0,23) wurde zwischen 700C und 950C mittels der Radiotracer-Methode untersucht. Die Diffusionsprofile wurden durch Schichtenteilung mit Hilfe einer Präzisionsschleifmaschine bestimmt. Es zeigte sich, daß bei Ge-Gehalten ≤ 8 % die Golddiffusion wie in Silizium über den Verdrängungsmechanismus erfolgt. Bei Ge-Gehalten zwischen 10 % und 23 % diffundiert das Gold weiterhin über diesen Mechanismus, jedoch mit kleinerem effektiven interstitiellen Golddiffusionskoeffizienten. Selbst bei 700C ist der Verdrängungsmechanismus noch diffusionsbestimmend, was man an der Form von Goldausdiffusionsprofilen erkennt.

100% | Mobile Layout | Deutsche Version | Contact/Imprint/Privacy
DPG-Physik > DPG-Verhandlungen > 1998 > Regensburg