Regensburg 1998 – scientific programme
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O: Oberflächenphysik
O 10: Teilchen und Cluster
O 10.12: Talk
Monday, March 23, 1998, 19:00–19:15, H44
Präparation und Charakterisierung einzelner Adatome auf einem dünnen Oxidfilm: Pt/Al2O3/NiAl(110) — •B. Duncombe, G. Bozdech, N. Ernst und H.-J. Freund — Fritz-Haber-Institut der MPG, Berlin
Unseres Wissens ist bisher die experimentelle Charakterisierung
der Diffusion und Clusterbildung einzelner Adatome auf katalytisch
relevanten Oxidoberflächen nicht berichtet worden. Ausgangspunkt
unseres methodischen Ansatzes sind die Feldionenmikroskopie und
verwandte experimentelle Techniken (FEM,FES) angewandt auf
Pt/Al2O3/NiAl(110). Dabei gelang es erstmals einzelne Platinatome
mittels Neon bei 79K abzubilden.
Auf einer (110)-orientierten NiAl-Einkristallspitze wurde durch
Oxidation ein ca. 5Å dünner Al2O3-Film auf ähnliche
Weise wie bei ausgedehnten Einkristalloberflächen präpariert
[1,2]. Der Pt/Al2O3/NiAl(110)-Film ist bei Feldstärken von
etwa 3,5V/Å und T<79K stabil. Mittels Ne-FIM wird nach
(gepulster) Feldverdampfung eine scharfe Grenzlinie zwischen
dem NiAl(110)-Substrat und dem Oxidfilm beobachtet. Erste
spektroskopische Analysen zeigen, daß die Feldelektronen-
Energieverteilung für Al2O3/NiAl(110) an der Fermikante
gegenüber NiAl(110) im Rahmen der Meßgenauigkeit von etwa
30meV nicht verschoben ist, der Oxidfilm den Tunnelstrom aber
um den Faktor zwei erniedrigt.
[1] K.Müller, H. Lindner, Verh. der DPG 4,1130(1990)
[2] R.M.Jäger, H.Kuhlenbeck, H.-J. Freund, M. Wuttig, W. Hoffmann, R. Franchy, H. Ibach, Surf.Sci. 259,235(1991)