Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 10: Teilchen und Cluster
O 10.5: Vortrag
Montag, 23. März 1998, 17:15–17:30, H44
Si-Nanostrukturen auf CaF2: Morphologie und optische Eigenschaften — •A. Iline, M. Andersson, F. Stietz und F. Träger — Fachbereich Physik, Universität Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel
Es wird über die Bildung von Nanostrukturen, z.B. dünnen Filmen, Clustern und Clusteragglomeraten, während des Aufdampfens von Si auf CaF2 im UHV berichtet. Ziel dieser Untersuchung ist, unterschiedliche Morphologien zu präparieren und ihre spezifischen optischen Eigenschaften zu charakterisieren. Dazu wurden Strukturen unterschiedlicher Form, Größe und Kristallinität erzeugt, wobei Diffusionsprozesse auf der Oberfläche eine besondere Rolle spielen. Diese hängen stark von der Substrattemperatur ab. Die Strukturen wurden mit Hilfe von Rasterkraftmikroskopie (RKM) abgebildet. Außerdem wurden deren optische Eigenschaften mit Extinktions-, Photolumineszenz- und Ramanspektroskopie untersucht. Es konnte eine deutliche Korrelation zwischen der Morphologie der Nanostrukturen und ihren optischen Eigenschaften festgestellt werden. Letztere weichen zudem substantiell von denen des Festkörpers als auch dünner Schichten ab. Besonders interessant ist die Abhängigkeit der Extinktion von der Form der Nanostrukturen. Zusätzlich zu den Experimenten wurden Modellrechnungen durchgeführt, die auf der quasistatischen Näherung und der Mie-Theorie beruhen. Diese zeigen gute Übereinstimmung mit dem Experiment und demonstrieren die Bedeutung von Oberflächenplasmonen in den Si-Nanostrukturen.